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XUV高反射率鏡

基板形狀:平面、凸形、凹形、拋物面、超環(huán)面、橢圓面

基板材料:石英、硅、zero dewer等

多層膜材料:Mo/Si(50eV至100eV)、Ru/Si(50eV至100eV)、Zr/Al(50eV至70eV)、SiC/Mg(25eV至50eV)、Cr/C(至300eV)等

基板尺寸:φ3毫米至φ300毫米(標(biāo)準(zhǔn)值為1英寸)

產(chǎn)品特點(diǎn)
Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米(90電子伏)波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達(dá)70%的正入射反射率。

NTT-AT公司的XUV反射鏡的材料、膜結(jié)構(gòu)和基板形狀可以定制以滿足用戶有關(guān)中心波長和光學(xué)裝置的需求。


主要應(yīng)用
  • 天文學(xué)
  • XUV光電子光譜
  • XUV顯微
  • EUV光刻
  • 等離子體物理
  • 阿秒科學(xué)
參數(shù)
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