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XUV多層膜窄帶反射鏡

基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環面、橢圓面
基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）、SiC/Mg（25eV至50eV）、Cr/C（至300eV）等
基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（標準值為1英寸）
產品特點
Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率。

NTT-AT公司的XUV反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。

主要應用
  • 天文學
  • XUV光電子光譜
  • XUV顯微
  • EUV光刻
  • 等離子體物理
  • 阿秒科學
參數
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