隨著高速光通信發展，光器件種類多、迭代快，對測量儀要求更高。而在新興平面光波導和硅光芯片領域，其對儀表測量精確性、穩定性和操作便利性等各方面提出前所未有的挑戰。東隆集團專注于高端光學測量與傳感測試系統研發和解決方案開發，擁有OFDR核心技術，并成功推出國產多功能光學矢量分析系統--OCI-V。
圖1.光矢量分析系統（OCI-V）
OCI-V光學矢量分析系統，原理是采用線性掃頻光源對待測器件進行掃描，并結合相干檢測技術獲取待測器件的瓊斯矩陣，進而獲得器件插損(IL)、色散(CD)、偏振相關損耗(PDL)、偏振模色散(PMD)等多項光學參數。系統測量長度200m，可工作在C+L或O波段，具有測量范圍大、波長范圍寬、覆蓋器件廣、測量參數多等優勢。
比如在不同場景利用OCI-V測量，測出的數值都比較優秀，具體如下圖所示：
HCN氣體吸收室測量
圖2.OCI-V測量HCN氣體吸收室
HCN氣室會對固定波長的光進行吸收造成損耗，OCI-V測量不同波段的光通過HCN氣室后的損耗情況。
保偏光纖快慢軸時延差測量
圖3.OCI-V測量保偏光纖快慢軸
保偏光纖快軸折射率小、光傳輸速度快，慢軸折射率大、光傳輸速度慢。OCI-V精確測量PMD對于評估光纖制備、光器件制造及光通信鏈路非常有意義。
圖4.OCI-V測量FBG受壓時偏振相關損耗
FBG在沒有壓力時中心波長附件光波段的PDL趨近于0，施加壓力后中心波長附近兩端出現兩個峰值，隨著壓力逐漸增大，波峰峰值越來越大，在壓力達到60KN時波峰出現最大值。
由此可看出，OCI-V光學矢量分析系統能夠同時測量光學網絡損耗、偏振、色散等信息，分析光器件在寬譜、精細波長下的損耗和時延。其功能強大、操作方便，在光器件的研發、生產全過程中發揮重要作用，為改善設計、優化結構和評估工藝等提供可靠依據。
